近期，各大視頻平臺(tái)瘋傳一條消息，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了這樣一張圖，表示圖片中的項(xiàng)目就是光刻廠。中國(guó)電子院9月18日發(fā)文解釋稱，圖片中項(xiàng)目其實(shí)是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目（HEPS）。

HEPS坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國(guó)家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施。它是我國(guó)第一臺(tái)高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。早在2019年就開始建設(shè)，將于2025年底投入使用。

簡(jiǎn)單的說(shuō)，HEPS可以看成是一個(gè)超精密、超高速、具有強(qiáng)大穿透力的巨型X光機(jī)。它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進(jìn)行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界。HEPS是進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗(yàn)的大科學(xué)裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機(jī)工廠。

雖然HEPS不是光刻廠，但關(guān)于光刻廠的信息之所以能在自媒體平臺(tái)迅速刷屏。歸根到底還是源于大眾對(duì)解決“卡脖子”難題的期待。中國(guó)電子院強(qiáng)調(diào)，他們?cè)谥Α爸袊?guó)芯”之路上持續(xù)發(fā)力。近年來(lái)，中國(guó)電子院深耕細(xì)做半導(dǎo)體行業(yè)，承擔(dān)了國(guó)內(nèi)超過(guò)50%的存儲(chǔ)芯片項(xiàng)目。為國(guó)家在電子信息領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)科技自立自強(qiáng)做出了重要貢獻(xiàn)。

當(dāng)前，面對(duì)復(fù)雜、嚴(yán)峻的國(guó)際形勢(shì)，行業(yè)企業(yè)自立自強(qiáng)迫在眉睫。為打造更具競(jìng)爭(zhēng)力的先進(jìn)電子制造工廠，目前已推出“先進(jìn)電子制造數(shù)字孿生工廠解決方案1.0版”。今年，中國(guó)電子院還成立松山湖先進(jìn)半導(dǎo)體工程技術(shù)聯(lián)合創(chuàng)新中心。未來(lái)，中國(guó)電子院將持續(xù)瞄準(zhǔn)國(guó)家重大戰(zhàn)略需求，開展關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)，加快突破“卡脖子”難題，全力推動(dòng)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

（編輯：斯文）